Q2暴赚305亿！却遭美方施压：决不能卖给大陆！

Q2暴赚305亿！却遭美方施压：决不能卖给大陆！

       一家设备公司，成了中美半导体角逐的战略制高点。

　　中美之间，围绕光刻机的明争暗斗已持续很多年。尤其是2018年中芯国际向ASML下单购买一台价值1.2亿美元的EUV光刻机后，至今也迟迟未能到货，背后很直接的就是因美国政府从中作梗，向荷兰政府施压，以遏制中国半导体制造能力的发展。

《华尔街日报》报道截图

　　中芯国际之外，如台积电、三星等芯片代工大厂却自EUV光刻机正式上市后便能够自由而疯狂的求购，据悉目前仅台积电一家企业就已经拥有了近50台EUV光刻机，并在此基础上陆续研发了5nm，以及在研3nm级工艺，并持续通过购买ASML的新型EUV设备来打造更先进的2nm技术。这也直接让这两家代工巨头垄断了全球绝大部分的先进制程业务，赚的盆满钵满。

　　受惠于这些巨头大厂的鼎力支持，ASML也从中捞得不少好处。昨日，ASML也正式对外发布了2021年第二季度财报，展示了这家全球第一的半导体设备大厂Q2季度的辉煌成绩。

　　Q2业绩爆表 ASML狂揽10亿欧元

　　全球第一半导体设备大厂业绩爆表，也充分说明当前半导体设备市场的紧俏程度。财报显示，ASML公司第二季度净销售额(net sales)金额为40亿欧元（约人民币305亿），毛利率(gross margin)达到50.9%，净利润金额(net income)为10亿欧元。第二季度的新增订单(net booking)金额为83亿欧元，且预期2021年第三季度的净销售额(net sales)金额约为52亿欧元-54亿欧元，毛利率(gross margin)约为51%-52%。

　　ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink也详尽分析了第二季度的营收结构：“我们第二季度的营收达到40亿欧元，符合预期，毛利率则优于预期，达到50.9%，主要受益于客户希望采用软件升级来快速提高产能，以及一次性的会计收入认列(one-off revenue accounting releases)。而我们第二季度的新增订单金额则达到83亿欧元，其中49亿欧元来自EUV系统订单，总待出货订单金额(backlog)达到175亿欧元。”

　　除此之外，“我们看到来自于不同细分市场和对于ASML产品组合的需求仍然很高，主要原因是市场专注于提高产能以支持数字化基础设施的建设，这同时带动了市场对于逻辑及存储芯片的长期需求，不仅在先进制程节点方面，在成熟制程节点也是。我们正在努力将设备产量最大化，目前预计2021年的全年净销售额将比去年增长约35%，预计毛利率为51%-52%。”

　　从设备端来讲，EUV(极紫外光)光刻业务方面，ASML第一台NXE:3600D已如预期那般出货给客户（大概率是台积电）。相较于前一代产品，NXE:3600D的生产力提高15%到20%，且套刻精度(overlay)也提高30%，在30mJ/cm2的曝光速度下每小时可处理160片晶圆。

　　同时，ASML目前在售的两款极紫外光刻机分别是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，采用的都是波长为13.5nm的极紫外光源，30mJ/cm2的曝光速度下，前者每小时可处理125片晶圆，后者则可达到170片。且该公司也正增加EUV在存储产业的量产应用，并表示后续将协助三个DRAM客户实现在未来的制程节点中导入EUV。

　　而在DUV(深紫外光)光刻业务方面，据记者获悉，TWINSCAN NXT:2000i浸润式光刻系统在客户端已经达到单日曝光6,300片晶圆的新记录。同时，也完成了第100台TWINSCAN的翻新，今年也预计出货20台翻新后的PAS系统及6台TWINSCAN系统。

　　美国再出手：中国或拿不到EUV光刻机了？

　　自问世以来，EUV一直都被视为振兴中国半导体产业的一剂良药，有了它，中国在先进制程领域就有了希望，有了一丁点话语权。但如今，随着拜登的正式上台，在扼制中国半导体产业发展方面，毫无疑问将继续延续特朗普时期的战略，甚至有过之无不及，更多的是阴损的招数而非明打明抢的套路。

　　数日前，美媒《华尔街日报》就曾报道了美国将向荷兰政府再度施压以禁止向中国供应EUV光刻机的消息。一位美国官员透露，拜登政府在确认EUV光刻机在科技产业中的战略价值后，选择延续特朗普时期的政策。白宫官员已与荷兰政府进行接触，并以国家安全为由要求荷兰方面限制向中国大陆出售EUV。报道还披露，拜登正式就职还不到一个月，其国家安全顾问杰克·沙利文已就“在先进技术方面的密切合作”与荷兰方面进行交谈。美国官员透露，继续限制阿斯麦与中国大陆的合作，是沙利文的首要任务。

　　显然，这是早有预料的事情。毕竟，从拜登正式上台以来，就已经充分暴露了其在半导体等高精尖技术领域对华继续遏制的意图，此番动机也早在计划之中。而在美方的施压下，几乎可以非常确定荷兰政府将不得不接受美国的逼迫，ASML对中国出货EUV也没有什么可能了。

　　据2021年一季度的数据显示，ASML共向中国大陆出货光刻系统仅约11台，占比15%在全球排名第三（前两名是韩国和中国台湾），中国大陆光刻机的整体保有量甚至还不及三星或台积电任一家公司光刻设备的拥有数量，足见对大陆的光刻机出货是有多谨慎。

　　尽管ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink曾不止一次的表示，“出口管制将加快中国自主研发，15年时间里他们将做出所有的东西”、“中国完全自主掌控供应链之后，欧洲供应商将彻底失去市场”，但这依然不能左右美荷两国政府层面的决策。

　　照这个势头来看，根据美方一直以来年复一年的脾性，EUV可能只能等到市场真正活跃到7nm、5nm甚至3nm这类目前的先进制程，待未来的成熟制程产品烂大街之后，才会真正开放向中国供应。亦或是等到大陆半导体产业自己真正研发出自主可控的EUV设备之后，可能才会开放向中国供应相关设备。

　　因此，眼下中国的路只有在严谨务实的态度上去自立自强。而在这方面，本土机构和企业已经有所行动，比如2020年6月方正证券的一份研报中就提到：“在国家02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193nmArF浸没式DUV光刻机，其制程工艺为28纳米，对标产品为ASML现阶段最强DUV光刻机：TWINSCANNXT:2000i。以NXT:2000i为例，各子系统拆分如下：上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台，浙江启尔机电提供浸没系统。”目前，大多数企业已经有较大进展，甚至一些产品已经上市。

　　但总的来说，目前行业尚未有明确的关于28nm国产光刻机产品上市投入商用的消息，但编者相信，目前该项目已经有所眉目，虽然离不需要ASML的供应还相去甚远。但相信在各路本土高手们的共同协作攻坚下，28nm光刻机设备的商用，甚至14nm以及未来的自主EUV，都有希望陆续问世，成为中国半导体产业自主自强的国之重器。